Riposo nella fuga in Egitto

Morghen Raffaello; Poussin Nicolas; Tofanelli Stefano

Riposo nella fuga in Egitto

Descrizione

Autore: Morghen Raffaello, incisore; Poussin Nicolas, inventore; Tofanelli Stefano, disegnatore

Ambito culturale: Neoclassicismo

Cronologia: post 1775 - ante 1799

Oggetto: stampa

Soggetto: sacro

Materia e tecnica: bulino

Misure: 585 x 454 (inciso); 627 x 537 (impronta); 657 mm x 555 mm (foglio)

Collocazione

Brescia (BS), Musei Civici di Arte e Storia. Pinacoteca Tosio Martinengo

Credits

Compilazione: Menta, L. (2002)

  Scheda completa SIRBeC (formato PDF)

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