Riposo nella fuga in Egitto
Morghen Raffaello; Poussin Nicolas; Tofanelli Stefano
Descrizione
Autore: Morghen Raffaello, incisore; Poussin Nicolas, inventore; Tofanelli Stefano, disegnatore
Ambito culturale: Neoclassicismo
Cronologia: post 1775 - ante 1799
Oggetto: stampa
Soggetto: sacro
Materia e tecnica: bulino
Misure: 585 x 454 (inciso); 627 x 537 (impronta); 657 mm x 555 mm (foglio)
Collocazione
Brescia (BS), Musei Civici di Arte e Storia. Pinacoteca Tosio Martinengo
Credits
Compilazione: Menta, L. (2002)
Scheda completa SIRBeC (formato PDF)
Link risorsa: https://lombardiabeniculturali.it/stampe/schede/D0080-04480/
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